| 发明名称 | 衬底处理装置用进气部 | ||
| 摘要 | 1.本外观设计产品的名称为衬底处理装置用进气部。2.本外观设计产品在用于处理晶片的衬底处理装置中，设置在反应管的下端，用于使反应气体流入到反应管的反应室内。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状，尤其在于C-C部放大图所示的产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。 | ||
| 申请公布号 | CN303169595S | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201430294439.0 | 申请日期 | 2014.08.13 |
| 申请人 | 株式会社日立国际电气 | 发明人 | 山崎惠信;森田慎也;高木康祐 |
| 分类号 | 15-99(9) | 主分类号 | 15-99(9) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈伟;王娟娟 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本东京都 | ||