| 发明名称 | 成像装置 | ||
| 摘要 | 成像装置包含基底，第一光电二极管和第二光电二极管形成于基底上，光电转换层设置于基底上，光电转换层包含第一区块和第二区块，绝缘分隔物设置于光电转换层的第一区块与第二区块之间，第一电极和第二电极分别设置于光电转换层的第一区块和第二区块之下，以及电性内连接层设置于光电转换层上。 | ||
| 申请公布号 | CN104517980A | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201410115325.4 | 申请日期 | 2014.03.26 |
| 申请人 | 采钰科技股份有限公司 | 发明人 | 林绮涵;张志光;毛新惟 |
| 分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 时永红;潘培坤 |
| 主权项 | 一种成像装置，包括：基底，包含形成于该基底上的第一光电二极管和第二光电二极管；光电转换层，包含设置于该基底上的第一区块和第二区块；绝缘分隔物，设置于所述光电转换层的第一区块与第二区块之间；第一电极和第二电极，分别设置于所述光电转换层的第一区块和第二区块之下；以及电性内连接层，设置于所述光电转换层上。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||