| 发明名称 | 一种利用原子力纳米探针测试金属层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种利用原子力纳米探针测试金属层的方法，包括下列步骤：将样品研磨到待测点金属层；在所述研磨好的样品上均匀覆盖一层有机掩模层；去除所述样品待测点金属层上的有机掩模层；将高硬度导电材料覆盖到待测点金属层上；使用有机溶剂去除所述样品上的有机掩模。本发明提出的利用原子力纳米探针测试金属层的方法，有效地解决了原子力纳米探针(AFP)不容易通过金属层测试样品的难题。 | ||
| 申请公布号 | CN102759638B | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201210264858.X | 申请日期 | 2012.07.27 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 李剑;唐涌耀 |
| 分类号 | G01Q60/24(2010.01)I;G01Q60/38(2010.01)I | 主分类号 | G01Q60/24(2010.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 陆花 |
| 主权项 | 一种利用原子力纳米探针测试金属层的方法，其特征在于，包括下列步骤：将样品研磨到待测点金属层；在所述研磨好的样品上均匀覆盖一层有机掩模层；去除所述样品待测点金属层上的有机掩模层；将高硬度导电材料覆盖到待测点金属层上，其中，所述高硬度导电材料的硬度高于所述待测点金属层；使用有机溶剂去除所述样品上的有机掩模。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 | ||