发明名称 用于传送基板的装置
摘要 本发明公开一种用于传送基板的装置。所述装置包括:真空室;托盘,用于在所述真空室中传送所述基板;上部传送单元,用于向所述托盘的上部传递驱动力而不接触所述托盘的上端部;相对运动容许单元,耦合至所述托盘的下端部并可相对于所述托盘运动;以及多个引导单元,用于接触所述相对运动容许单元并引导所述托盘的运动。
申请公布号 CN102849462B 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201210224161.X 申请日期 2012.06.29
申请人 SFA工程股份有限公司 发明人 郑洪基;金起灿;韩景录;金正训;李春秀;吴基容;徐相训;殷熙官;金荣敏
分类号 B65G49/07(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;H01J9/48(2006.01)I 主分类号 B65G49/07(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陆勍
主权项 一种用于传送基板的装置,所述装置包括:真空室;托盘,用于在所述真空室中传送所述基板;上部传送单元,用于向所述托盘的上部传递驱动力而不接触所述托盘的上端部;相对运动容许单元,耦合至所述托盘的下端部并可相对于所述托盘运动,所述相对运动容许单元包括旋转本体,所述旋转本体相对旋转地耦合至所述托盘,所述旋转本体包括托盘支撑轴、旋转管以及轴承,所述托盘支撑轴耦合至所述托盘的所述下端部,所述旋转管用于在其中容置所述托盘支撑轴,并具有与所述引导单元相接触的外表面,所述轴承具有耦合至所述托盘支撑轴的内圆周及耦合至所述旋转管的外圆周;以及多个引导单元,用于接触所述相对运动容许单元并引导所述托盘的运动。
地址 韩国京畿道