复合研磨垫及其制造方法

摘要

本发明涉及一种复合研磨垫及其制造方法，该复合研磨垫包括一缓冲层及一研磨层。该缓冲层包括一第一高分子弹性体，其硬度为10至70肖氏D，且直接接合于该研磨层。该研磨层包括一第二高分子弹性体，其硬度为30至90肖氏D，且具有一研磨面，用以研磨一基材。通过此，该缓冲层及该研磨层不易产生分离，从而可提高抛光质量。

主权项

一种复合研磨垫，包括：一缓冲层，包括一第一高分子弹性体，其硬度为10至70肖氏D；及一研磨层，其直接接合于该缓冲层，该研磨层包括一第二高分子弹性体，且其硬度为30至90肖氏D，该研磨层具有一研磨面，用以研磨基材。