| 发明名称 | 负性光致抗蚀剂组合物和器件的图案化方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种负性光致抗蚀剂组合物，其表现出优异的灵敏度并能形成令人满意的具有倒锥形的光致抗蚀剂图案，从而可在器件制造过程中有效地图案化各种薄膜，并能在图案化后容易地移除，以及涉及一种图案化器件的方法。光致抗蚀剂组合物包括：碱溶性粘合剂树脂；含卤素的第一光生酸剂；基于三嗪的第二光生酸剂；含有烷氧基结构的交联剂；和溶剂。 | ||
| 申请公布号 | CN102884479B | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201180022571.X | 申请日期 | 2011.05.03 |
| 申请人 | 株式会社LG化学 | 发明人 | 朴灿晓;金璟晙;金瑜娜 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 侯婧;钟守期 |
| 主权项 | 一种负性光致抗蚀剂组合物，包括：碱溶性粘合剂树脂；含卤素的第一光生酸剂；基于三嗪的第二光生酸剂；包含烷氧基结构的交联剂；包括由化学式6表示的基于苯酚线型酚醛清漆的化合物的显影加速剂；溶剂：[化学式6]<img file="FDA0000664474850000011.GIF" wi="679" he="435" />其中l代表重复单元的聚合度，范围为2至10。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||