| 发明名称 | 基板处理装置和基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，其能够可靠地将基板正面的清洗液置换成挥发性溶剂，有效地防止干燥基板时的图案崩塌。基板处理装置(100)包括利用低浓度的挥发性溶剂置换清洗液，然后进一步利用高浓度的挥发性溶剂进行置换的溶剂置换单元(有机溶剂供给部(15)和溶剂供给部(34))。 | ||
| 申请公布号 | CN104517873A | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201410513508.1 | 申请日期 | 2014.09.29 |
| 申请人 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | 发明人 | 长嶋裕次;松下淳;林航之介;宫崎邦浩;古矢正明;东野秀史;田内丰泰 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于：对基板的正面供给清洗液，将该清洗液置换成挥发性溶剂，利用对基板的正面的加热除去挥发性溶剂，对基板的正面进行干燥，所述基板处理装置具有溶剂置换单元，该溶剂置换单元将所述清洗液置换成低浓度的挥发性溶剂，然后进一步置换成高浓度的挥发性溶剂。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||