发明名称 | 一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法,包括:采用所述激光干涉计对刻划刀架的固有位置误差进行测量;采用衍射波前测量仪对所述光栅基底的面形误差进行测量;根据步骤一测量得到的刻划刀架固有位置误差和步骤二得到的光栅基底面形误差,推导出补偿上述误差后的光栅刻刀在光栅刻划任意位置处的理想位置。准备光栅刻划。进行消像差光栅刻划。采用压电执行器实时调整光栅刻刀,使其与其理想位置偏差最小。本发明在光栅刻划过程中对刻划刀架固有位置误差和光栅基底面形误差进行了实时补偿,有效抑制了上述误差对消像差光栅衍射波前的影响;通过主动控制光栅刻刀进行消像差光栅刻划,有效避免了控制工作台方案对消像差光栅性能的影响。 | ||
申请公布号 | CN104516037A | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
申请号 | CN201410787476.4 | 申请日期 | 2014.12.17 |
申请人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明人 | 李晓天;于海利;唐玉国;刘兆武;杨超;齐向东 |
分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人 | 张伟 |
主权项 | 一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、采用激光干涉计对所述刻划刀架在每条刻线刻划过程中的固有位置误差进行多次测量,取平均值,从而获得代表刻划刀架固有位置误差的一维数组;步骤二、采用衍射波前测量仪对光栅基底的面形误差进行测量,从而获得光栅基底的面形误差矩阵;步骤三、根据步骤一测量得到的刻划刀架固有位置误差数组和步骤二得到的光栅基底面形误差矩阵,建立补偿上述误差后的光栅刻刀在消像差光栅刻划任意位置处的理想位置表达式;步骤四、准备光栅刻划实验条件;将压电执行器的位置设置在其总行程的一半位置,然后将光栅刻划刀架移动至一条刻线开始位置,将用于位置测量的激光干涉计的读数清零;设置光栅刻划总刻线数;步骤五、将光栅基底放置于工作台上,进行消像差光栅刻划;在每条光栅刻线的刻划过程中,实时调整压电执行器的位置,使激光干涉计的位置读数与步骤三给出的光栅刻刀的理想位置的偏差量最小;步骤六、在完成光栅最后一个刻线刻划后,停止光栅刻划。 | ||
地址 | 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号 |