| 发明名称 | 一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于蓝宝石化学机械平坦化抛光液，本发明属于化学机械抛光(CMP)领域，特别涉及蓝宝石的CMP。本发明的抛光液包含磨料、水、促进剂、螯合剂和抛光稳定剂，其特征在于还包含一种碳载非贵金属催化剂。本发明的抛光液成功地解决了蓝宝石超硬晶体材料平坦化去除速率低的技术难点，并获得晶片的超光滑表面，表面粗糙度Ra可达亚纳米级。 | ||
| 申请公布号 | CN104513628A | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201410811763.4 | 申请日期 | 2014.12.22 |
| 申请人 | 清华大学;深圳清华大学研究院 | 发明人 | 潘国顺;徐莉;邹春莉;史晓磊;周艳;罗桂海;龚桦 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人 | 哈达 |
| 主权项 | 一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液，该抛光液包含磨料、去离子水、稳定剂、螯合剂，其特征在于还包含碳载非贵金属催化剂。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区北京100084-82信箱 | ||