发明名称 绝缘栅双极晶体管及其制造方法
摘要 本发明提出一种绝缘栅双极晶体管(insulated gate bipolar transistor,IGBT)及其制造方法。绝缘栅双极晶体管包含:氮化镓(gallium nitride,GaN)基板,具有上表面;第一GaN层,具有第一导电型,形成于上表面上,且第一GaN层具有侧壁,垂直于上表面;第三GaN层,具有与第一导电型相反的第二导电型或纯质导电型,形成于第一GaN层上,且第三GaN层与GaN基板间,由第一GaN层隔开;栅极,形成于GaN基板上,且栅极具有侧板,于横向上,邻近或邻接于侧壁,以控制通道;以及第三GaN层,具有第一导电型,形成于上表面上,且第三GaN层与第一GaN层之间,由栅极隔开。
申请公布号 CN104518014A 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201310450234.1 申请日期 2013.09.27
申请人 立锜科技股份有限公司 发明人 黄智方;黄宗义;邱建维;杨宗谕;张庭辅;萧琮介;刘亚弦;彭柏瑾
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 陈肖梅;谢丽娜
主权项 一种绝缘栅双极晶体管,其特征在于,包含:一氮化镓基板,具有一上表面;一第一氮化镓层,具有第一导电型,形成于该上表面上,且该第一氮化镓层具有一侧壁,垂直于该上表面;一第二氮化镓层,具有第一导电型,形成于该上表面上;一第三氮化镓层,具有与第一导电型相反的第二导电型或纯质导电型,形成于该第一氮化镓层上,且该第三氮化镓层与该氮化镓基板间,由该第一氮化镓层隔开;以及一栅极,形成于该氮化镓基板上,且该栅极具有一侧板,于一横向上,邻近或邻接于该侧壁,以控制一通道;其中,该第二氮化镓层与该第一氮化镓层之间,由该栅极隔开。
地址 中国台湾新竹县竹北市