发明名称 具电磁遮蔽的无镀层铜线及其制造方法
摘要 本发明是有关于一种具电磁遮蔽的无镀层铜线及其制造方法,所述方法是首先将钛锡合金层形成于铜芯线的表面,再将金镍合金层形成于钛锡合金层的表面,最后将铜芯线进行真空热处理,使得钛锡合金层以及金镍合金层可完全扩散至芯线的基地组织,并于芯线组织中形成均匀的Cu(TiSn)<sub>x</sub>Au<sub>y</sub>Ni<sub>z</sub>合金层;藉此,本发明的无镀层铜线不仅具有抗电磁干扰以及改善高频的表面效应,亦可大幅提升线材拉伸强度与打线接合强度,进而提高接合线后续工艺的可靠度。
申请公布号 CN104517687A 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201310466029.4 申请日期 2013.09.30
申请人 吕传盛;洪飞义 发明人 吕传盛;洪飞义
分类号 H01B13/00(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01L23/49(2006.01)I 主分类号 H01B13/00(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 韩蕾
主权项 一种具电磁遮蔽的无镀层铜线的制造方法,该方法包括有下述步骤:步骤一:准备纯铜所制成的芯线;步骤二:将钛锡合金层形成于所述芯线的表面,所述钛锡合金层是由包含65重量百分比至75重量百分比的钛以及剩余重量百分比的锡所构成;步骤三:于所述钛锡合金层的表面形成金镍合金层,所述金镍合金层是由包含92重量百分比至99重量百分比的金以及剩余重量百分比的镍所构成;以及步骤四:进行真空热处理,使所述钛锡合金层以及金镍合金层完全扩散至芯线的基地组织中,并于芯线组织中形成均匀Cu(TiSn)<sub>x</sub>Au<sub>y</sub>Ni<sub>z</sub>合金层;其中0&lt;x&lt;1,0&lt;y&lt;1,0&lt;z&lt;1,且x+y+z=1。
地址 中国台湾台北市中山区兴安街34号之1
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