| 发明名称 | 液处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。 | ||
| 申请公布号 | CN104517870A | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201410466264.6 | 申请日期 | 2014.09.12 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种液处理装置，其将基板保持于旋转自如的基板保持部，并对基板供给处理液来进行液处理，其特征在于，该液处理装置包括：杯体，其包围上述基板保持部，并在基板上方设有开口；包围构件，其在比上述杯体靠外侧的位置将包括上述杯体的上方空间在内的区域包围；气流形成部，其用于从上述杯体的上侧起在杯体内形成下降气流；板部，其沿着上述杯体的周向设置，堵塞上述杯体和上述包围构件之间的间隙；以及排气口，其为了对位于上述板部上方的被上述包围构件和上述板部包围的区域进行排气而设于比上述杯体靠外侧的位置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||