发明名称 |
带有融合金属纳米线的透明导电电极、它们的结构设计及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于纳米线的电极的制造方法,所述电极具有均匀的光学特性和异质的电学性能。所述方法包括:提供一个基板,在该基板上涂布含有银纳米线的第一溶液(103)以形成一层纳米线膜;在所述纳米线膜的上方放置一个掩膜(105),在所述掩膜(105)的上方照射紫外线;利用光酸产生剂和紫外线,将所述银纳米线转换为氧化银纳米线(106);将所述膜进行退火处理。 |
申请公布号 |
CN104521005A |
申请公布日期 |
2015.04.15 |
申请号 |
CN201480000276.8 |
申请日期 |
2014.01.22 |
申请人 |
苏州诺菲纳米科技有限公司 |
发明人 |
潘克菲 |
分类号 |
H01L31/0224(2006.01)I;H01B1/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0224(2006.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种图案化导电电极的方法,其包括:提供一个基板;在该基板上涂布含有第一材料的第一溶液,以形成第一层纳米线膜;蒸发去除金属纳米线膜中的溶剂;在所述金属纳米线膜的上方放置一个掩膜,其中所述掩膜设有允许紫外线穿过的一个反复开口区域以及屏蔽紫外线使之远离所述纳米线膜的一些区域;在所述掩膜的上方照射紫外线;利用光酸产生剂和紫外线,将所述第一材料转换为第二材料,其中所述第一材料和第二材料的折射率差小于0.2,雾度差不超过0.2%,且所述第二材料的导电性比所述第一材料的导电性弱;以及将所述薄膜进行退火处理,去除被所述掩膜屏蔽的区域中未反应的光酸产生剂,其中所述第一材料形成了所述图案化导电电极的第一区域,所述第二材料形成了所述图案化导电电极的第二区域。 |
地址 |
215028 江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A4-308 |