| 发明名称 | 一种曝光投影物镜 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种曝光投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；一具有正光焦度的第四透镜组G14；所述第四透镜组G14内包含一孔径光阑AS；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组满足以下关系：-0.3 <f<sub>G12</sub>/ f<sub>G11</sub>< -0.1-0.6<f<sub>G12</sub>/ f<sub>G13</sub>< -0.30.1<f<sub>G13</sub>/ f<sub>G14</sub><0.40.25<f<sub>G15</sub>/ f<sub>G14</sub><0.45其中：f<sub>G11</sub>：所述第一透镜组G11的焦距；f<sub>G12</sub>：所述第二透镜组G12的焦距；f<sub>G13</sub>：所述第三透镜组G13的焦距；f<sub>G14</sub>：所述第四透镜组G14的焦距；f<sub>G15</sub>：所述第五透镜组G15的焦距。 | ||
| 申请公布号 | CN103105666B | 申请公布日期 | 2015.04.15 |
| 申请号 | CN201110353594.0 | 申请日期 | 2011.11.10 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 武珩 |
| 分类号 | G02B13/22(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B13/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种曝光投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组（G11）；一具有负光焦度的第二透镜组（G12）；一具有正光焦度的第三透镜组（G13）；一具有正光焦度的第四透镜组（G14）；所述第四透镜组（G14）内包含一孔径光阑（AS）；以及一具有正光焦度的第五透镜组（G15）；其中，所述第一、二、三、四、五透镜组满足以下关系：‑0.3 <f<sub>G12</sub>/ f<sub>G11</sub>< ‑0.1‑0.6<f<sub>G12</sub>/ f<sub>G13</sub>< ‑0.30.1<f<sub>G13</sub>/ f<sub>G14</sub><0.40.25<f<sub>G15</sub>/ f<sub>G14</sub><0.45其中：f<sub>G11</sub> ：所述第一透镜组（G11）的焦距；f<sub>G12</sub> ：所述第二透镜组（G12）的焦距；f<sub>G13</sub> ：所述第三透镜组（G13）的焦距；f<sub>G14</sub> ：所述第四透镜组（G14）的焦距；f<sub>G15</sub> ：所述第五透镜组（G15）的焦距。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||