发明名称 基板处理方法以及基板处理装置
摘要 本发明提供一种不管基板的表面状态如何都能够利用冲洗液的液膜呈浸液状覆盖基板的整个表面的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括紧接着进行药液工序进行并向旋转的基板的表面供给冲洗液的冲洗工序,所述冲洗工序包括高速冲洗工序和在该高速冲洗之后进行的减速冲洗工序,所述减速冲洗工序包括积液工序,在该积液工序中,在比所述高速冲洗工序时的旋转速度低的旋转速度的范围内使所述基板的旋转速度减小,并以比所述高速冲洗工序时的最大供给流量大的流量向所述基板的表面供给冲洗液,以在所述基板的表面上形成浸液状的冲洗液的液膜。
申请公布号 CN104517807A 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201410493910.8 申请日期 2014.09.24
申请人 斯克林集团公司 发明人 吉住明日香;樋口鲇美
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 宋晓宝;向勇
主权项 一种基板处理方法,包括:药液工序,向旋转的基板的表面供给药液,对所述基板的表面进行药液处理,冲洗工序,紧接着所述药液工序进行,通过向旋转的所述基板的表面供给冲洗液,利用所述冲洗液冲洗掉在所述基板的表面上附着的药液,并形成冲洗液的液膜;其特征在于,所述冲洗工序包括高速冲洗工序和在该高速冲洗之后进行的减速冲洗工序,所述减速冲洗工序包括积液工序,在该积液工序中,在比所述高速冲洗工序时的旋转速度低的旋转速度的范围内使所述基板的旋转速度减小,并以比所述高速冲洗工序时的最大供给流量大的流量向所述基板的表面供给冲洗液,以在所述基板的表面上形成浸液状的冲洗液的液膜。
地址 日本国京都府京都市