一种CMP工艺中新品研磨数据计算方法

摘要

一种CMP工艺中新品研磨数据计算方法，应用于APC系统，按以下方法同步新品的定时程序中控制信息：一，TECH、Layer、PPID、PostTargetclearratio相同，则复制controller；二，clearratio不同，clearratio差异在5%以内的任意两笔旧品记录，按公式（A的刻开比clearratio-B的刻开比clearratio）/（B的刻开比clearratio-C的刻开比clearratio）=（A的研磨量Table–B的消除前值影响的研磨量Table’）/（B的消除前值影响的研磨量Table’-C的消除前值影响的研磨量Table’）计算出新品A的研磨量Table，取A的前值=B、C前值的平均值；三，将A的研磨量Table和A的前值写入控制信息controller，其它信息数据复制任意一个选取的旧品B或C的数据。本发明的新品上线成功率高、成本低、减少浪费。

主权项

一种CMP工艺中新品研磨数据计算方法，应用于APC系统，所述APC系统的控制信息controller中含有晶圆工艺TECH、层次Layer、层次上应用的工艺程序PPID、中心值Post Target、刻开比clear ratio数据、前值和旧品的研磨量Table，其特征是，按以下方法同步新品的定时程序中控制信息controller：一，旧品的晶圆工艺TECH、层次Layer、层次上应用的工艺程序PPID、中心值Post Target和刻开比clear ratio数据与新品的对应数据相同，则复制当前的旧品控制信息controller；二，旧品的晶圆工艺TECH、层次Layer、层次上应用的工艺程序PPID、中心值Post Target与新品的对应数据相同，刻开比clear ratio不同，则按以下公式方法计算出新品的研磨量Table：（A的刻开比clear ratio‑B的刻开比clear ratio）/（B的刻开比clear ratio‑C的刻开比clear ratio） = （A的研磨量Table –B的消除前值影响的研磨量Table’）/（B的消除前值影响的研磨量Table’‑C的消除前值影响的研磨量Table’）式中A表示新品，B、C为任意两个刻开比差异在5%以内的旧品； A、B、C的刻开比clear ratio均为预设值； B的消除其前值不同影响的研磨量Table’ =B的前值‑A的前值+控制信息controller中已经定义的B的研磨量Table；C的消除其前值不同影响的研磨量Table’ =C的前值‑A的前值+控制信息controller中已经定义的C的研磨量Table；其中，控制信息controller中已经存在B、C的前值和研磨量Table数据，A的前值=B、C前值的平均值；然后将计算出的新品A的研磨量Table和A的前值写入控制信息controller，其它信息数据复制自任意一个选取的旧品B或C的数据。