| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM WHERE MULTI-LAYER THIN FILM IS COATED, MULTI-LAYER THIN FILM TYPE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM PRODUCE BY THE SAME, AND MULTI-LAYER THIN FILM TYPE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM PRODUCING DEVICE |
| 摘要 |
<p>본 발명은, 기판 또는 필름위에 제 1 굴절율을 갖는 SiO층을 코팅하는 단계; 플라즈마 진공 분위기에서 상기 코팅된 SiO층에 상기 제 1 굴절율보다 높은 제 2굴절율을 갖는 TiO층을 스퍼터링 코팅하는 단계; 상기 TiO층에 제 1 AZO층을 스퍼터링 코팅하는 단계; 상기 제 1 AZO 층에 Ag 층을 스퍼터링 코팅하는 단계; 및 상기 Ag층에 제 2 AZO층을 스퍼터링 코팅하는 단계를 포함하는, 다층박막이 코팅된 투명전도막의 제조방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 다층 박막형 투명 전도막에 관한 것이다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101512063(B1) |
申请公布日期 |
2015.04.14 |
| 申请号 |
KR20120055921 |
申请日期 |
2012.05.25 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
C23C14/08;C23C14/34;H01B5/14;H01B13/00 |
主分类号 |
C23C14/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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