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经营范围
发明名称
膜濃縮工程を含む沈殿シリカの製造方法
摘要
<p>本発明は、沈殿シリカの懸濁液(S1)を得るためのシリケートと酸性化剤の反応後、ケークを得るための分離工程、沈殿シリカの懸濁液(S2)を得るためのケークの分解工程、沈殿シリカの懸濁液の乾燥工程が続く、沈殿シリカの製造方法に関する。本発明によれば、膜濃縮工程は分解工程と乾燥工程の間に実施される。</p>
申请公布号
JP2015510867(A)
申请公布日期
2015.04.13
申请号
JP20150500935
申请日期
2013.03.21
申请人
发明人
分类号
C01B33/193
主分类号
C01B33/193
代理机构
代理人
主权项
地址
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