发明名称 SUBSTRATE HOLDING DEVICE, EXPOSURE APPARATUS HAVING SAME, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR PRODUCING DEVICE, AND LIQUID REPELLENT PLATE
摘要 기판 홀더 (PH) 는, 기재 (PHB) 와, 기재 (PHB) 에 형성되고 또한 기판 (P) 을 흡착 유지하는 제 1 유지부 (PH1) 와, 기재 (PHB) 에 형성되고 또한 제 1 유지부 (PH1) 에 흡착 유지된 기판 (P) 의 근방에 플레이트 부재 (T) 를 흡착 유지하는 제 2 유지부 (PH2) 를 구비하고 있다. 기판 홀더 (PH) 를 구비하는 노광 장치는, 플레이트의 교환이 용이하고, 메인터넌스가 용이하다. 따라서, 액침 노광에 적합하다.
申请公布号 KR101511876(B1) 申请公布日期 2015.04.13
申请号 KR20137000176 申请日期 2005.06.08
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 시바자키 유이치
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/68;H01L21/683 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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