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发明名称
Nonvolatile memory device
摘要
<p>3차원 구조의 비휘발성 메모리 장치가 제공된다. 비휘발성 메모리 장치는 메모리 셀 영역 및 콘택 영역들을 포함하는 반도체 기판, 메모리 셀 영역에서, 반도체 기판에 대해 수직으로 신장된 활성 기둥들, 메모리 영역에서 콘택 영역으로 연장되며, 활성 기둥들을 가로지르는 복수 개의 게이트 전극들 및 콘택 영역에서, 반도체 기판에 대해 수직으로 신장되어 게이트 전극들을 관통하는 복수 개의 지지대들을 포함한다.</p>
申请公布号
KR101511764(B1)
申请公布日期
2015.04.13
申请号
KR20080121886
申请日期
2008.12.03
申请人
삼성전자주식회사
发明人
채수두;이명범;문희창;김한수;김진균;김기현
分类号
H01L21/8247;H01L27/115
主分类号
H01L21/8247
代理机构
代理人
主权项
地址
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