发明名称 最佳化方法及微影单元
摘要
申请公布号 TWI480923 申请公布日期 2015.04.11
申请号 TW098143952 申请日期 2009.12.21
申请人 ASML荷兰公司 发明人 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯;芬德斯 乔泽夫 玛利亚;米德雷布鲁克斯 史考特 安德森;王李冬子;戴 莫尔 克利丝堤娜 洁瑞塔 玛利亚;度沙 米尔西亚
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种最佳化一微影程序之方法,其包含:进行具有至少一第一变数之一第一制造步骤,该第一制造步骤导致一第一中间特征;量测该第一中间特征之一第一特性;进行具有至少一第二变数之一第二制造步骤,该第二制造步骤导致一第二中间特征;量测该第二中间特征之一第二特性;利用基于该等第一变数之至少一者及该等第二变数之至少一者以及该第一特性及该第二特性中之至少一者的一模型来模型化一最终特征之一最终特性;量测该最终特性;藉由以基于该第一及第二制造步骤之一模型估计针对该第一及第二制造步骤之干扰(disturbance)来比较该经模型化之最终特性与该经量测之最终特性,其中该估计系以卡尔曼滤波器来进行;更新该模型;修改该第一变数及该第二变数中之至少一者以最佳化该最终特性;及使用第一变数及第二变数中之该经修改之至少一者来进行该第一制造步骤及该第二制造步骤。
地址 荷兰