发明名称 磁控溅镀枪装置
摘要
申请公布号 TWI480408 申请公布日期 2015.04.11
申请号 TW102135601 申请日期 2013.10.01
申请人 财团法人国家实验研究院 发明人 廖博辉;萧健男
分类号 C23C14/35 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人 欧奉璋 台北市信义区松山路439号3楼
主权项 一种磁控溅镀枪装置,系包括:一磁铁铜座,具有一外围磁铁区、一中心磁铁区、及一设置于该外围磁铁区与该中心磁铁区之间之中空凹槽;一磁性元件,系以可拆卸式设置于该外围磁铁区与该中心磁铁区;一导体元件,系以可拆卸式设置于该中空凹槽;一溅镀靶材,系设置于该磁铁铜座之上方;一靶材固定组件,系包覆该磁铁铜座并固定该溅镀靶材;以及一圆筒状护罩,系包覆该靶材固定组件。
地址 台北市大安区和平东路2段106号3楼