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经营范围
发明名称
磁控溅镀枪装置
摘要
申请公布号
TWI480408
申请公布日期
2015.04.11
申请号
TW102135601
申请日期
2013.10.01
申请人
财团法人国家实验研究院
发明人
廖博辉;萧健男
分类号
C23C14/35
主分类号
C23C14/35
代理机构
代理人
欧奉璋 台北市信义区松山路439号3楼
主权项
一种磁控溅镀枪装置,系包括:一磁铁铜座,具有一外围磁铁区、一中心磁铁区、及一设置于该外围磁铁区与该中心磁铁区之间之中空凹槽;一磁性元件,系以可拆卸式设置于该外围磁铁区与该中心磁铁区;一导体元件,系以可拆卸式设置于该中空凹槽;一溅镀靶材,系设置于该磁铁铜座之上方;一靶材固定组件,系包覆该磁铁铜座并固定该溅镀靶材;以及一圆筒状护罩,系包覆该靶材固定组件。
地址
台北市大安区和平东路2段106号3楼
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