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经营范围
发明名称
具有最佳调整可能性之投影曝光装置
摘要
申请公布号
TWI480669
申请公布日期
2015.04.11
申请号
TW098132249
申请日期
2009.09.24
申请人
卡尔蔡司SMT有限公司
发明人
毕特纳 鲍瑞斯;华特 霍杰;洛伊舒 玛斯
分类号
G03B27/68;G03F7/20
主分类号
G03B27/68
代理机构
代理人
李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项
一种微影之投影装置,包含:一物镜,用以成像一物场;至少一个或复数个操控器,用以操控该物镜之至少一个或复数个光学元件;一控制单元,用以控制该至少一个或复数个操控器,特征在于:该控制单元包含:一第一装置,藉由解出一逆问题,以决定该至少一个或复数个操控器之一移动;一第二装置,用于该逆问题之数值稳定,其中该数值稳定为一SVD稳定及/或具有权重γ之一特克洛夫稳定、一L曲线方法、及/或一cg稳定及/或一先决条件作用。
地址
德国
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