发明名称 | 复合透明氧化物薄膜及其制造方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI480953 | 申请公布日期 | 2015.04.11 |
申请号 | TW101111487 | 申请日期 | 2012.03.30 |
申请人 | 和鑫光电股份有限公司 | 发明人 | 庄尧智 |
分类号 | H01L21/3205;H01B5/14 | 主分类号 | H01L21/3205 |
代理机构 | 代理人 | 刘育志 台北市大安区敦化南路2段77号19楼 | |
主权项 | 一种复合透明氧化物薄膜之制造方法,包含:在一基板上沉积一透明导电氧化物薄膜(Transparent Conductive Oxide,TCO);在该透明导电氧化物薄膜的上或下沉积一缺氧氧化物薄膜(Anoxic oxide film),该缺氧氧化物薄膜的含氧量系氧化物化学计量的65%~99.9%;以及对该缺氧氧化物薄膜、该透明导电氧化物薄膜以及该基板进行热处理程序,以形成一复合透明氧化物薄膜,其中该缺氧氧化物薄膜是由氧化矽、氧化钛、氧化铝、氧化锂、氧化钾、氧化钠、氧化钡、氧化锶、氧化钙及氧化镁的其中之一或数个组成之族群所构成。 | ||
地址 | 台南市新市区环西路1段8号 |