发明名称 |
氧化矽玻璃坩埚的评价方法、单晶矽的制造方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI480505 |
申请公布日期 |
2015.04.11 |
申请号 |
TW101140627 |
申请日期 |
2012.11.01 |
申请人 |
日本超精石英股份有限公司 |
发明人 |
须藤俊明;佐藤忠広;北原贤;北原江梨子;小玉真喜子 |
分类号 |
G01B11/24;C30B15/10;C30B29/06 |
主分类号 |
G01B11/24 |
代理机构 |
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代理人 |
刘育志 台北市大安区敦化南路2段77号19楼 |
主权项 |
一种氧化矽玻璃坩埚的评价方法,包括以下制程:使内部测距部非接触地沿着氧化矽玻璃坩埚的内表面移动,在移动路径上的多个测量点,通过从内部测距部对所述坩埚的内表面倾斜方向照射镭射,并检测来自所述内表面的内表面反射光,来测量内部测距部与所述内表面之间的内表面距离,通过将各测量点的三维座标与所述内表面距离建立关联,求出所述坩埚的内表面三维形状。
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地址 |
日本 |