发明名称 NOVEL PHOTO-ACID GENERATOR, PHOTOSENSITIVE POLYMER CONTAINING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要 <p>본 발명은 감광성 고분자의 중합에 단량체로서 적용이 가능한 신규한 광산발생제와 이를 포함하는 감광성 고분자 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 공정에서 사용하는 화학 증폭형 레지스트 조성물로서 감광성 고분자의 주쇄에 광산발생제를 포함시킨 감광성 고분자 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 고분자는 지환족 고리에 비닐기가 도입된 광산발생제를 포함함으로써 고분자 중합물로 제조가 가능하여 레지스트 내의 광산발생제의 불균일성과 쏠림 현상을 최소화시킬 수 있고, 라인 에지 러프니스를 개선시키는 효과가 있어 더욱 우수한 해상도를 얻을 수 있다.</p>
申请公布号 KR101509197(B1) 申请公布日期 2015.04.10
申请号 KR20140006931 申请日期 2014.01.20
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/028 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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