パターン化されたＸ線光学素子の製造方法

摘要

パルスレーザビーム（１６）は、レーザビームに対して比較的透明な材料の基板（１８）上に溝パターンを彫る。パターンの溝（２０）は、異なる密度又は異なる電子密度の充填材料で充填されている。異なる密度の材料で充填された溝のパターンは、各種光学素子の基本構造を形成する空間密度変調を生成する。レーザ光の光束密度を調整して特定の場所でのみ材料破壊の閾値を超えるようにすることによって、材料のアブレーションは、レーザビーム自体の径よりも小さい径に低減することができる。このようにして作製した溝は、空気圧又はより高い圧力に続く露出によって真空下で変形可能な材料で充填することができる。異なる濃度のナノ粒子で溝を充填し、熱印加によって、又は保護膜を用いて固定することも可能である。