| 摘要 |
<p>マイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）の投影対物系は、第１の屈折光学要素（４４）と第２の屈折光学要素（５４）とを含む波面補正デバイス（４２）を有する。第１の屈折光学要素は、装置の動作波長に対して温度増大と共に低下する屈折率を有する第１の光学材料を含む。第２の屈折光学要素は、装置の動作波長に対して温度増大と共に増大する屈折率を有する第２の光学材料を含む。補正デバイス（４２）の補正モードにおいて、第１の加熱デバイス（４６；１４６）が、第１の光学材料内に不均一で可変の第１の温度分布を生成し、第２の加熱デバイス（５６；１５６）が、第２の光学材料内に不均一で可変の第２の温度分布を生成する。【選択図】図２</p> |
