曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板

摘要

本发明提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光轴(L)分散入射到积分器(74)的周边部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的图案的曝光图案；形成在与曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；和形成在与曝光图案的外缘的跟第一边相对置的第二边相邻的位置的第二校准标识；第一校准标识配置在从步进方向观察时与形成第二校准标识的位置不重叠的位置上。

主权项

一种掩模，通过使该掩模与被曝光基板在步进方向上相对移动而将图案曝光到该被曝光基板上，其特征在于，该掩模具有： 形成有将曝光到上述被曝光基板上的图案的曝光图案； 形成在与上述曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；以及 形成在与上述曝光图案的外缘的和上述第一边相对置的第二边相邻的位置上的第二校准标识， 上述第一校准标识配置在从上述步进方向观察时与形成有上述第二校准标识的位置不重叠的位置上， 曝光时遮盖光圈重合在形成有上述第一校准标识、上述第二校准标识和间距测定窗的区域上。