发明名称 |
一种异质外延生长大尺寸单晶金刚石的衬底及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种异质外延生长大尺寸单晶金刚石的衬底及其制备方法。所述衬底自下而上依次为Si衬底、TiN单晶籽晶层、金属氧化物单晶薄膜层、铱单晶薄膜层。本发明设计并制备了一种可异质外延生长大尺寸单晶金刚石的叠层,特别地,在其中插入了TiN单晶籽晶层作为外延模板和过渡缓冲层,提高了氧化物及整个衬底外延层的晶向的取向一致度及生长质量,从而为生长高质量大尺寸单晶金刚石提供了可能;本发明由于使用了TiN缓冲层,整个外延叠层结构可以基于Si衬底进行,使得外延成本大大地降低,同时基于Si衬底生长金刚石,可以更好地与电子信息工业相匹配。 |
申请公布号 |
CN104499047A |
申请公布日期 |
2015.04.08 |
申请号 |
CN201410794743.0 |
申请日期 |
2014.12.20 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
王杨;代兵;朱嘉琦;舒国阳 |
分类号 |
C30B29/04(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/04(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 |
代理人 |
高媛 |
主权项 |
一种异质外延生长大尺寸单晶金刚石的衬底,其特征在于所述衬底自下而上依次为Si衬底、TiN单晶籽晶层、金属氧化物单晶薄膜层、铱单晶薄膜层。 |
地址 |
150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |