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<p>본 발명은 처리될 객체가 놓이는 서포트를 포함하는 처리 진공 챔버(10), 플라즈마를 생성하는데 적합하고 무선주파수 전력 Pi 및 흐름율 ni의 기체 i에 의해 독립적으로 공급되는 적어도 하나의 플라즈마 소스(210, 220)를 각각 포함하는 적어도 두 개의 서브어셈블리들(21, 22)을 포함하는, 객체 플라즈마 처리 시스템(1)에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 서브어셈블리들(21) 중 어느 하나에 의해 생성된 플라즈마는 다른 서브어셈블리 또는 어셈블리들(22)에 의해 생성된 플라즈마와 상이한 화학적 속성을 갖는, 부분적으로 이온화된 기체 또는 기체 혼합물이다. 본 발명은 또한 이러한 장치를 구현하는 복합 객체의 선택적 처리 방법에 관한 것이다.</p> |
