一种抗划伤型光学扩散膜及其制备方法

摘要

本发明的一种抗划伤型光学扩散膜，包括有基材层、光扩散层、防粘接层，光扩散层包括树脂成膜物、扩散粒子、交联剂和溶剂，扩散粒子包括有机粒子和无机粒子，有机粒子由大粒子、中粒子和小粒子组成，大粒子为PBMA粒子或者PIBMA粒子，大粒子和中粒子的粒径比为5:1至3:1，质量比为1:6至1:3，大粒子和小粒子的粒径比为15:1至10:1，质量比为1:1至1:3，有机粒子和无机粒子的粒径比为130:1至10:1，质量比为50：1至5：1。本光学扩散膜通过粒子分散、稀释、干燥固化处理完成基材层表面光扩散层和防粘接层的制备，制备方法简单，且表面形成软性接触面，形成良好的耐划伤性。

主权项

一种抗划伤型光学扩散膜，包括有基材层(1)，所述的基材层(1)的上表面涂覆形光扩散层(2)，该基材层(1)的下表面涂覆形成防粘接层(3)，其特征是：所述的光扩散层(2)包括树脂成膜物(4)、扩散粒子、交联剂和溶剂，所述的扩散粒子包括有机粒子和无机粒子(24)，所述的有机粒子由粒径范围在10μm至40μm的大粒子(21)，粒径范围在5μm至15μm的中粒子(22)和粒径范围在1μm至5μm的小粒子(23)组成，所述的无机粒子(24)的粒径范围在0.1μm至1μm，所述的大粒子(21)为PBMA粒子或者PIBMA粒子，所述的大粒子(21)和中粒子(22)的粒径比控制在5:1至3:1，质量比控制在1:6至1:3，所述的大粒子(21)和小粒子(23)的粒径比控制在15:1至10:1，质量比控制在1:1至1:3，所述的有机粒子和无机粒子(24)的粒径比控制在130:1至10:1，质量比控制在50：1至5：1；所述的防粘接层(3)包括防粘接层有机粒子(31)、树脂成膜物(4)、交联剂和溶剂。