用于透明导电氧化层的蚀刻介质

摘要

本发明涉及用于透明导电层结构化的新型蚀刻介质，该透明导电层例如用在使用平板屏幕的液晶显示器(LCD)或有机发光显示器(OLED)的制造中或用在薄膜太阳能电池中。具体而言，它涉及无粒子的组合物，借助该组合物可以在透明导电氧化层中选择性蚀刻精细结构而不会损坏或侵蚀相邻区域。该新型液体蚀刻介质可以有利地通过印刷法施加到要被结构化的透明导电氧化层上。随后的热处理加速或引发该蚀刻过程。

主权项

在太阳能电池，平板屏幕，液晶显示器或有机发光显示器中选择性蚀刻透明导电氧化层的方法，其中蚀刻线宽小于100微米，该方法包括将包含如下组分的蚀刻糊通过喷涂、旋涂、浸渍、丝网印刷、模板印刷、压印、移印或喷墨印刷施加到所述透明导电氧化层：a)水，b)微粒和/或可溶无机和/或有机增稠剂，和c)磷酸或其盐，磷酸加合物或，磷酸与磷酸盐和/或磷酸加合物的混合物，然后，加热所述透明导电氧化层。