基板抛光设备、基板抛光方法和在该抛光设备中用于调节抛光垫的抛光面温度的设备

摘要

提供了一种用于抛光基板的设备。所述设备包括：支撑抛光垫的可旋转抛光台；被构造为保持基板并且将基板压靠在所述旋转抛光台上的抛光垫的抛光面上从而抛光基板的基板保持器；被构造为测定抛光垫的抛光面温度的垫温度检测器；被构造为接触抛光垫的抛光面从而调节抛光面温度的垫温度调节器；以及被构造为通过基于所述垫温度检测器检测到的抛光面温度信息控制所述垫温度调节器以控制抛光面温度的温度控制器。

主权项

一种用于基板抛光设备中调节抛光垫的抛光面温度的垫温度调节设备，所述垫温度调节设备包括：立体元件，其包括垫接触元件和设在所述垫接触元件上的绝缘盖，其中所述垫接触元件具有要与抛光垫的抛光面接触的接触面，其中所述垫接触元件由陶瓷制成，其中所述绝缘盖被设置在所述接触面的相反侧，其中所述绝缘盖由与垫接触元件的线性膨胀系数接近的材料制成从而使得防止垫接触元件的热变形优先于绝热性，并且其中所述立体元件被构造为通过所述接触面在所述立体元件中流动的流体与抛光垫的抛光面之间进行热交换。