发明名称 |
一组应用于双大马士革金属互连工艺的光掩模 |
摘要 |
本发明公开了一组光掩模,应用于双大马士革金属互连工艺,通过设置沟槽光掩模和通孔光掩模;沟槽光掩模包括多组密集沟槽模块、半密集沟槽模块和孤立沟槽模块,通孔光掩模包括多组密集通孔图形模块、半密集通孔模块和孤立通孔模块,并且沟槽光掩模各模块和通孔光掩模各模块之间通过套准标记可以形成多种套准组合的光掩模,能有效地提高双大马士革金属互连工艺制备的精确性和有效性,进而提高器件的良率;同时,还能在有效地减少研发时间和研发成本的基础上,为双大马士革金属互连工艺生产提供一种监控工具。 |
申请公布号 |
CN103199057B |
申请公布日期 |
2015.04.08 |
申请号 |
CN201310081912.1 |
申请日期 |
2013.03.14 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
毛智彪;于世瑞;张瑜 |
分类号 |
H01L21/768(2006.01)I;G03F1/38(2012.01)I |
主分类号 |
H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
竺路玲 |
主权项 |
一组光掩模,应用于双大马士革金属互连工艺,其特征在于,所述一组光掩模包括沟槽光掩模和通孔光掩模;其中,所述沟槽光掩模包括多组密集沟槽模块、半密集沟槽模块和孤立沟槽模块;所述通孔光掩模包括多组密集通孔模块、半密集通孔模块和孤立通孔模块;所述沟槽光掩模上设置有至少一个沟槽套准标记,所述通孔光掩模上设置有至少一个通孔套准标记,所述沟槽套准标记与所述通孔套准标记的数量及位置相对应;所述沟槽光掩模与所述通孔光掩膜相互套准;且当所述沟槽光掩模与所述通孔光掩膜套准时,所述密集沟槽模块与所述密集通孔模块重叠,所述半密集沟槽模块与所述半密集通孔模块重叠,所述孤立沟槽模块与所述孤立通孔模块重叠。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |