发明名称 固态成像装置、制造固态成像装置的方法和电子设备
摘要 提供固态成像装置(1)、制造固态成像装置的方法和电子设备。固态成像装置包括基板(22),其中多个像素(2)形成在基板中。另外,多个凹槽(27)形成在基板中,具体是在相邻像素之间的像素隔离区域(31)中。凹槽从基板的第一表面朝着基板的第二表面延伸。埋入膜(29)延伸进入凹槽中。至少某些凹槽包括靠近基板的第一表面的第一级和靠近基板的第二表面的第二级,第一级和第二级由凹槽的壁限定,其中第一级宽于第二级,并且其中第一级和第二级之间存在台阶(15)。另外,该装置包括位于凹槽上相邻于基板的第一表面的遮光膜(30)。遮光膜的一部分埋设在延伸进入凹槽的该埋入膜中。
申请公布号 CN104508821A 申请公布日期 2015.04.08
申请号 CN201380039862.9 申请日期 2013.07.25
申请人 索尼公司 发明人 榎本贵幸;蛯子芳树
分类号 H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 焦玉恒
主权项 一种固态成像装置,包括:基板;多个像素,形成在该基板中;多个凹槽,形成在该基板中,其中该凹槽位于相邻像素之间的像素隔离区域中,并且其中该凹槽从该基板的第一表面朝着该基板的第二表面延伸;以及埋入膜,延伸进入该凹槽中,并且其中为至少下述各项之一:1)至少某些凹槽包括靠近该基板的该第一表面的第一级和靠近该基板的该第二表面的第二级,其中该第一级和第二级由该凹槽的壁限定,其中该第一级宽于该第二级,并且其中在该第一级和第二级之间存在台阶;以及2)该装置还包括上覆于该凹槽上且相邻于该基板的该第一表面的遮光膜,并且其中该遮光膜的至少一部分埋设在延伸进入该凹槽中的该埋入膜中。
地址 日本东京都