| 摘要 |
Schichtsystem mit einem Schichtbereich, wobei der Schichtbereich ein monokristallines Siliziumsubstrat mit einer Vorderseite und einer Rückseite aufweist und wobei auf der Vorderseite eine texturierte Oberfläche ausgebildet ist und die texturierte Oberfläche eine Topographie mit unterschiedlichen Höhen aufweist und auf der texturierten Oberfläche eine Dünnfilmschicht aus einem Metalloxid und / oder einer Oxidkeramik ausgebildet ist, wobei die Dünnfilmschicht die texturierte Oberfläche nur teilweise bedeckt. |
