用于等离子体处理反应腔的射频屏蔽装置

摘要

一种用于等离子体处理反应腔的射频屏蔽装置，所述等离子体处理反应腔包括反应腔壳体，所述反应腔壳体上设置有空洞，其中，所述射频屏蔽装置设置在所述反应腔壳体上并至少部分覆盖所述空洞，所述射频屏蔽装置由导电弹性体材料制成。本发明还提供了一种包括上述射频屏蔽装置的等离子体处理系统以及一种用于等离子体处理反应腔的射频屏蔽方法。采用本发明的射频屏蔽机制，能够更好的进行射频屏蔽，并且安装/拆卸方便，节省反应腔空间。

主权项

一种用于等离子体处理反应腔的射频屏蔽装置，所述等离子体处理反应腔包括反应腔壳体，所述反应腔壳体上设置有空洞，其特征在于，所述射频屏蔽装置设置在所述反应腔壳体上并至少部分覆盖所述空洞，所述射频屏蔽装置由导电弹性体材料制成；所述等离子体处理反应腔还包括反应腔内部部件，其通过所述空洞从所述反应腔壳体内部延伸至外部，所述射频屏蔽装置至少部分覆盖所述反应腔内部部件延伸出所述空洞的剩余空隙部分，并与所述反应腔内部部件的外围接合处紧密结合。