基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够使冲洗液恰好飞散到清洗对象位置，抑制装置的大型化，并且能够在批处理的途中执行杯清洗。特殊模式具有第2冲洗处理，在第2冲洗处理中，在与通常模式的第1冲洗处理不同的动作条件下，一边由旋转卡盘保持基板并使基板旋转，一边向基板供给冲洗液，来利用从旋转的基板飞散的冲洗液对处理杯进行清洗。由于在特殊模式中基板被保持在旋转卡盘上，所以从基板飞散的冲洗液难以碰到卡盘部件。此外，在特殊模式下，没有必要设置用于杯清洗的专用机构。此外，特殊模式是只要在腔室内存在基板就能够执行的模式，即使是在批处理的途中也能执行。

主权项

一种基板处理装置，对多个基板依次进行处理，其特征在于，具有：处理装置主体，具有基板保持单元、旋转驱动单元、药液供给单元、冲洗液供给单元和杯，所述基板保持单元保持所述基板，所述旋转驱动单元使所述基板保持单元旋转，所述药液供给单元向保持于所述基板保持单元上的所述基板供给药液，所述冲洗液供给单元向保持于所述基板保持单元上的所述基板供给冲洗液，所述杯包围所述基板保持单元的周围，控制单元，预先设定有多种基板处理模式，对所述处理装置主体进行控制，来针对各基板选择执行多种所述模式中的一种模式，多种所述模式具有：通常模式，所述通常模式具有第1药液处理和第1冲洗处理，在所述第1药液处理中，一边通过所述基板保持单元保持基板并使所述基板旋转，一边向所述基板供给药液，来对所述基板进行药液处理，在所述第1冲洗处理中，一边通过所述基板保持单元保持所述基板并使所述基板旋转，一边向所述基板供给冲洗液，来从所述基板冲洗掉所述药液，特殊模式，所述特殊模式具有第2冲洗处理，在所述第2冲洗处理中，在与所述第1冲洗处理不同的动作条件下，一边通过所述基板保持单元保持所述基板并使所述基板旋转，一边向所述基板供给冲洗液，来利用从旋转的所述基板飞散的所述冲洗液对所述杯进行清洗。