发明名称 光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现设备
摘要 本发明公开一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现设备,包括:光源;光学元件,将激光束转换为实质上准直的光束;以及物镜,其中,激光束的波长λ(单位:nm)在400<λ<410的范围中,光学元件和物镜由具有玻璃态转变温度Tg>115℃的相同的树脂材料或不同树脂材料制成,每个光学表面都被配置为不具有含有钛,钽,铪,锆,铌,钼,和铬元素的至少其中之一的光学薄膜,光学元件的每个光学表面具有抗反射膜,所述抗反射膜由二氧化硅、氧化铝、氟化铝和氟化镁的其中之一或者至少两种的混合物制成,且满足下列条件:<img file="DSA00000309864200011.GIF" wi="811" he="138" /></maths>
申请公布号 CN102044273B 申请公布日期 2015.04.08
申请号 CN201010509251.4 申请日期 2010.09.29
申请人 HOYA株式会社 发明人 井上智;吉田侑太;桥本直人;滝岛俊
分类号 G11B7/1374(2012.01)I;G11B7/1376(2012.01)I;G02B13/16(2006.01)I 主分类号 G11B7/1374(2012.01)I
代理机构 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人 程伟;王锦阳
主权项 一种光学信息记录/再现光学系统,通过使激光束入射到光盘的记录层对光盘记录信息和/或从光盘再现信息,包括:光源,发射激光束;光学元件,将光源发射的激光束转换为实质上准直的光束;以及物镜,将从光学元件出射的激光束会聚到光盘的记录层上,其中:激光束的波长λ在下列条件确定的范围中,波长λ的单位为nm:400&lt;λ&lt;410…(1),光学元件和物镜由具有玻璃态转变温度Tg的相同的树脂材料或不同树脂材料制成,所述玻璃态转变温度Tg满足下列条件:Tg&gt;115℃…(2),光学元件和物镜的每个光学表面都被配置为不具有含有钛,钽,铪,锆,铌,钼,和铬元素的至少其中之一的光学薄膜,光学元件的每个光学表面具有抗反射膜,所述抗反射膜由二氧化硅、氧化铝、氟化铝和氟化镁的其中之一制成,或者由二氧化硅、氧化铝、氟化铝和氟化镁的至少两种的混合物制成,当光学表面中从光源发出的激光束进入的光学表面起算到物镜的出射表面被定义为第i表面,i=1,2,3,…n,当具有波长λ<sub>UV</sub>的光垂直入射到第i光学表面时定义的反射率被表示为R<sub>UVi</sub>,λ<sub>UV</sub>=365nm,R<sub>UVi</sub>的单位为%,以及当具有波长λ<sub>BL</sub>的光垂直入射到第i光学表面时定义的反射率被表示为R<sub>BLi</sub>,λ<sub>BL</sub>=405nm,R<sub>BLi</sub>的单位为%,光信息记录/再现光学系统满足条件:<maths num="0001" id="cmaths0001"><math><![CDATA[<mrow><munderover><mi>&Pi;</mi><mrow><mi>i</mi><mo>=</mo><mn>1</mn></mrow><mrow><mi>n</mi><mo>-</mo><mn>1</mn></mrow></munderover><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><mfrac><msub><mi>R</mi><mrow><mrow><mo>(</mo><mi>BL</mi><mo>)</mo></mrow><mi>i</mi></mrow></msub><mn>100</mn></mfrac><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><munderover><mi>&Pi;</mi><mrow><mi>i</mi><mo>=</mo><mn>1</mn></mrow><mrow><mi>n</mi><mo>-</mo><mn>1</mn></mrow></munderover><mrow><mo>(</mo><mn>1</mn><mo>-</mo><mfrac><msub><mi>R</mi><mrow><mrow><mo>(</mo><mi>UV</mi><mo>)</mo></mrow><mi>i</mi></mrow></msub><mn>100</mn></mfrac><mo>)</mo></mrow><mo>></mo><mn>0.05</mn><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mrow><mo>(</mo><mn>3</mn><mo>)</mo></mrow><mo>.</mo></mrow>]]></math><img file="FDA0000579132480000011.GIF" wi="1587" he="160" /></maths>
地址 日本东京新宿区中落合2丁目7番5号
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