发明名称 |
覆盖膜 |
摘要 |
本发明公开了一种与载带组合使用的覆盖膜,其至少含有基材层(A)、中间层(B)、剥离层(C)及可热封于载带的热封层(D),中间层(B)含有使用茂金属催化剂聚合得到的、拉伸模量为200MPa以下的直链低密度聚乙烯作为主成分;剥离层(C)含有导电材料,并且含有芳香族乙烯基含量为15至35质量%的芳香族乙烯-共轭二烯共聚物的氢化树脂作为主成分。此种覆盖膜在剥离时剥离强度的偏差小,可抑制剥离时组装工序中的问题。 |
申请公布号 |
CN103153811B |
申请公布日期 |
2015.04.08 |
申请号 |
CN201180049553.0 |
申请日期 |
2011.04.18 |
申请人 |
电气化学工业株式会社 |
发明人 |
佐佐木彰;德永久次;藤村彻夫 |
分类号 |
B65D73/02(2006.01)I;B65D85/86(2006.01)I |
主分类号 |
B65D73/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种覆盖膜,其特征为至少包括基材层(A)、中间层(B)、剥离层(C)及可热封于载带的热封层(D),中间层(B)含有使用茂金属催化剂聚合得到的、拉伸模量为200MPa以下的直链低密度聚乙烯作为主成分;剥离层(C)含有导电材料,同时含有芳香族乙烯基的含量为15至35质量%的芳香族乙烯‑共轭二烯共聚物的氢化树脂作为主成分。 |
地址 |
日本东京都 |