| 发明名称 | 含硅高支化聚合物及含有该聚合物的固化性组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的课题是提供一种硬涂层形成用组合物，其在高光滑性和疏水疏油性方面优异，并且在耐指纹性、污渍擦除性等防污性方面也优异，另一方面，可通过一般所使用的氮气氛下或空气气氛下的紫外线照射而固化。解决手段是一种含硅高支化聚合物、含有该高支化聚合物的固化性组合物、由该组合物得到的固化膜、以及使用该组合物得到的硬涂膜，所述含硅高支化聚合物是通过使单体A和单体B在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。 | ||
| 申请公布号 | CN104507990A | 申请公布日期 | 2015.04.08 |
| 申请号 | CN201380039560.1 | 申请日期 | 2013.07.24 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 田村浩康;松山元信;原口将幸 |
| 分类号 | C08F290/06(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;C08J7/04(2006.01)I;C09D4/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D143/04(2006.01)I;C09K3/18(2006.01)I | 主分类号 | C08F290/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 段承恩;李照明 |
| 主权项 | 一种含硅高支化聚合物，其是通过使单体A和单体B在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||