发明名称 REFLECTIVE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>본 발명은 마스크 제조 공정이나 마스크 사용 시의 세정 등에 의한 다층 반사막의 막 벗겨짐을 방지할 수 있는 반사형 마스크 블랭크를 제공한다. 본 발명의 반사형 마스크 블랭크는 기판상에 다층 반사막, 보호막, 흡수체막 및 레지스트막이 차례로 형성되어 있다. 기판의 중심에서부터 다층 반사막의 외주단까지의 거리를 L(ML), 기판의 중심에서부터 보호막의 외주단까지의 거리를 L(Cap), 기판의 중심에서부터 흡수체막의 외주단까지의 거리를 L(Abs), 기판의 중심에서부터 레지스트막의 외주단까지의 거리를 L(Res)로 했을 때, L(Abs)>L(Res)>L(Cap)≥L(ML)이고, 또한 레지스트막의 외주단은 기판의 외주단보다 내측에 존재한다.</p>
申请公布号 KR20150037918(A) 申请公布日期 2015.04.08
申请号 KR20157002359 申请日期 2013.07.27
申请人 호야 가부시키가이샤 发明人 하마모토 가즈히로;아사카와 다츠오;마루야마 오사무;쇼키 츠토무
分类号 G03F1/24;H01L21/027;H01L21/033 主分类号 G03F1/24
代理机构 代理人
主权项
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