发明名称 SUBSTRATE DEPOSITION APPARATUS AND METHOD TO CONTROL THAT
摘要 <p>본 발명은 기판 증착 장치 및 이의 제어 방법에 관한 것으로, 본 발명은 증착 공정이 진행되는 공간을 형성하는 증착 챔버, 상기 증착 챔버에 구비되어 소스 가스를 공급하는 소스 공급부, 상기 소스 공급부의 하측에 선택적으로 위치할 수 있도록 이동 가능하게 설치되며 상기 소스 공급부의 하측에서 노즐 단부를 가열하는 가열 부재 그리고, 상기 증착 챔버의 하측에 구비되며 기판이 안착되는 공간을 형성하고 수평 방향으로 이동 가능하게 설치되는 기판 지지부를 포함하는 기판 증착 장치 및 이의 제어방법을 제공한다. 본 발명에 의할 경우, 증착이 진행되는 공간과 공정 중 물리적인 마찰이 발생하는 구간이 실질적으로 격리되어 파티클 발생을 최소화시킴으로서 증착된 기판의 품질을 개선하는 것이 가능하고, 증착 공정이 하향으로 진행되기 때문에 대면적 기판에도 적용할 수 있으며, 소스 가스가 노즐 단부에 부착되어 노즐 단부를 차폐하는 문제점을 방지할 수 있는 장점이 있다.</p>
申请公布号 KR101508259(B1) 申请公布日期 2015.04.08
申请号 KR20130068516 申请日期 2013.06.14
申请人 发明人
分类号 C23C14/24;H01L51/56;H05B33/10 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人
主权项
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