发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, CONTROL DEVICE THEREOF, AND CONTROL METHOD THEREOF
摘要 <p>(과제) 프로세스 결과에 악영향을 미치는 처리 가스 공급 주기 패턴을 미리 변경해 두어, 기판에 대한 적절한 처리를 행한다. (해결 수단) 설정값 입력부(41)로부터의 정보에 기초하여, 기판 회전 기구의 회전 주기, 처리 가스의 공급 주기, 처리 가스의 공급 시간 및 처리 가스의 공급 횟수를 포함하는 처리 가스 공급 주기 패턴 연산 결과가, 패턴 연산부(42)에 있어서 구해진다. 설정값 입력부(41)로부터의 정보에 기초하여, 기판 상에 공급되는 처리 가스의 공급 영역의 형상이 시뮬레이터(49)에 의해 시뮬레이션 되고, 그의 결과가 디스플레이(50)에 표시된다. 비교부(43)에 있어서, 패턴 연산부(42)로부터의 처리 가스 공급 주기 패턴의 연산 결과와, 기억부(45)로부터의 프로세스 결과에 악영향을 주는 처리 가스 공급 주기 패턴의 참조 결과가 비교된다. 비교부(43)에 있어서, 처리 가스 공급 주기 패턴의 연산 결과와, 프로세스 결과에 악영향을 주는 참조 결과가 일치한 경우, 알람부(44)로부터 알람이 발해진다.</p>
申请公布号 KR101508948(B1) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20110046711 申请日期 2011.05.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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