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发明名称 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION COMPRISING NON-IONIC SURFACTANT AND CARBONATE SALT
摘要 <p>하기 성분을 포함하는 화학적 기계적 폴리싱 (CMP) 조성물 (Q) : (A)무기 입자, 유기 입자, 또는 이의 혼합물 또는 복합물 (입자는 고치-형상의 것임), (B)비-이온성 계면활성제, (C)탄산염 또는 탄산수소염, (D)알코올, 및 (M)수성 매질.</p>
申请公布号 KR20150036410(A) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20157003152 申请日期 2013.06.21
申请人 바스프 에스이 发明人 라이하르트 로베르트;리 유주오;라우터 미하엘;치우 웨이 란 윌리엄
分类号 C09K3/14;H01L21/321 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
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