发明名称 POLYMERIC MATERIALS AND METHODS FOR MAKING THE POLYMERIC MATERIALS
摘要 <p>중합체 물질, 중합체 물질의 제조방법 및 이 중합체 물질을 이용하는 포토레지스트 포뮬레이션이 개시된다. 한 관점으로서, m-크레졸, p-크레졸, 3,5-디메틸 페놀 및 2,5-디메틸 페놀을 함유하는 페놀계 단량체 조성물과 알데하이드를 함유하는 반응 혼합물의 축합 산물을 포함하는 중합체 물질이 제공된다. 이 중합체 물질은 추가로 광활성 화합물 및 용매와 접촉하여 포토레지스트 포뮬레이션을 형성할 수 있다.</p>
申请公布号 KR20150036531(A) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20157003596 申请日期 2013.07.10
申请人 发明人
分类号 C08G8/04;C08G8/24;C08G63/00;G03F7/023 主分类号 C08G8/04
代理机构 代理人
主权项
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