发明名称 STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 소정의 이동면 (16a) 을 구비한 고정부 (16) 와, 이동면 (16a) 을 따라 제 1 방향을 포함하는 복수의 방향으로 이동할 수 있는 제 1 이동체를 갖는다. 제 1 이동체의 이동과 동기하여, 이동면 (16a) 에 대하여 제 1 방향으로 이동하는 서브스테이지 (61A, 61B) 와, 서브스테이지 (61A, 61B) 에 적어도 일부가 형성되고, 서브스테이지 (61A, 61B) 와 이동면 (16a) 사이의 제 1 방향의 상대 위치에 관한 정보를 검출하는 제 1 계측 장치 (67) 와, 서브스테이지 (61A, 61B) 에 적어도 일부가 형성되고, 서브스테이지와 제 1 이동체 사이의 제 1 방향과 거의 직교하고 또한 이동면 (16a) 을 따르는 제 2 방향의 상대 위치에 관한 정보를 검출하는 제 2 계측 장치 (71, 72) 를 갖는다.
申请公布号 KR20150036734(A) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20157004515 申请日期 2007.12.21
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 오노 가즈야
分类号 G03F7/20;H01L21/68 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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