发明名称 THE HORIZONTAL TYPE APPARATUS FOR DEPOSITING A ATOMIC LAYER ON THE LARGE SUBSTRATE
摘要 <p>본 발명은 다수장의 대면적 기판에 대하여 수평 상태로 적층한 상태로 동시에 원자층 증착 공정을 수행할 수 있는 대면적 기판용 수평형 원자층 증착장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 수평형 원자층 증착장치는, 내부를 진공 상태로 유지하는 외부 챔버; 상기 외부 챔버 내부에 구비되며, 하면이 개방된 사각통 형상을 가지는 내부 챔버; 상기 내부 챔버 하측에 구비되며, 상하 방향으로 승강하면서 상기 내부 챔버의 하면을 개폐하는 챔버 커버; 상기 챔버 커버의 상측에 설치되어 상기 챔버 커버와 함께 승강하며, 다수장의 대면적 기판이 각각 층상 흐름(larminar flow) 간격으로 이격된 상태에서 수평 상태로 평행하게 탑재되는 카세트; 상기 내부 챔버의 일측벽에 구비되며, 상기 카세트에 탑재되어 있는 다수장의 기판 사이의 공간으로 공정 가스를 분사하는 공정가스 분사부; 상기 내부 챔버의 측벽 중 상기 공정가스 분사부가 설치되는 측벽과 마주보는 측벽에 구비되며, 상기 공정가스 분사부에 분사되는 공정가스를 흡입하여 배출하는 배기부; 및 상기 외부 챔버 내부로 상기 대면적 기판을 반입하고 반출하는 기판 반출입 수단;을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101507557(B1) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20130046379 申请日期 2013.04.25
申请人 发明人
分类号 C23C16/44;C23C16/448 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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