| 摘要 |
[과제] 반도체 소자 제조공정에 있어서, 레지스트 패턴 형성 후 또는 반도체 기판 가공 후에 발생하는 반도체 기판 상에 생기는 결함을 미연에 방지하기 위하여, 리소그래피 공정에 있어서, 리소그래피용 약액의 반도체 제조장치 내로 통액하기 전에, 약액 통액부분에 존재하는 금속 불순물 등을 제거하기 위하여, 이들 불순물의 제거를 효과적으로 행하기 위한 세정액을 제공한다. [해결수단] 무기산, 물과, 친수성 유기용제를 포함하는, 반도체 제조의 리소그래피 공정에서 이용되는 반도체 제조장치 내의 리소그래피용 약액의 통액부분을 세정하기 위한 세정액이다. 해당 세정액 중의 무기산의 농도는 세정액의 총량에 기초하여 0.0001질량% 내지 60질량%가 바람직하다. |
